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          化學氣相沉積CVD技術簡介
          
        
          更新時間：2023-10-24      瀏覽次數：1734
          
        
           
          化學氣相沉積（CVD）技術是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術。在典型的CVD工藝過程中，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發生化學反應并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術具有成膜范圍廣、重現性好等優點，被廣泛用于多種不同形態的成膜。北方華創微電子憑借十余年的微電子領域精密工藝設備開發經驗，致力于為集成電路、半導體照明、微機電系統、功率半導體、化合物半導體、新能源光伏等領域提供各種類型的CVD設備，滿足客戶多種制造工藝需求。北方華創微電子開發的臥式PECVD 已成功進入海外市場，為多家*光伏制造廠提供解決方案。而硅外延設備在感應加熱高溫控制技術、氣流場、溫度場模擬仿真技術等方面取得了重大的突破，達成了優秀的外延工藝結果，獲得多家國內主流生產線批量采購。面向LED領域介質膜沉積的PECVD設備，憑借優秀的工藝性能和產能優勢，已成為LED客戶擴產優選設備。
           
          
        
      
          
      
          
    
          
  
          

          


          
    
          
        
        
          
            
            
                
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